膜厚・屈折率分布測定エリプソメータMEシリーズ

ME-210/ME-210-T

1nm以下の膜厚変化も高速・高密度に面測定できるφ8“ウェハ(オプションで⌀300mmまで対応可)まで全面測定可能な、高速マッピングエリプソメータです。
更に、微小領域測定、透明基板対応など、様々な膜厚分布測定に対応します。

測定事例

スピンコートしたレジスト膜厚分布

スペック
  • 測定
繰返し再現性
  • 膜厚: 0.1nm
    屈折率: 0.001 ※Si上のSiO2膜(膜厚約100nm)の1点を100回繰り返し測定時の標準偏差値
測定速度
  • 最大測定速度
    900点/分以上(広域モード 100mm角領域測定時)
    5,000点/分以上(高精細モード 1mm角領域測定時)
光源
  • 半導体レーザ(発振波長 636nm)
測定スポット
  • 広域モード:0.5mm角
    高精細モード:5.5µm角
入射角度
  • 70度
寸法
(W x D x H)
  • 270 × 337 × 最大631mm
透明基板対応
  • ME-210-T  対応
    ME-210   非対応
  • 筐体
ステージサイズ
  • 最大8インチウェハー対応
    (オプションで⌀300mmまで対応可)
寸法
(W x D x H)
  • ME-210-T 650 × 650 × 1744mm
    ME-210  650 × 650 × 1740mm
重量
  • 約200kg
インターフェース
  • GigE(カメラ信号)
  • その他
インターフェース
  • GigE(カメラ信号)
電源
  • AC100~240V
ソフトウェア
  • ME-View
付属品
  • デスクトップパソコン、モニター、取扱説明書、標準サンプル

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膜厚・屈折率分布定エリプソメータ ME/SEシリーズ

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カテゴリ

  • #膜厚・屈折率分布定エリプソメータ

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