膜厚・屈折率分布測定エリプソメータ SEシリーズ

SE-101

ポイント測定で高い測定精度・高速性を実現するコンパクトタイプのエリプソメータです。
ヘッドユニットは分離可能で、製造ラインや実験設備への組み込みが可能です。

スペック
	測定
繰返し再現性	膜厚: 0.1nm 屈折率: 0.001 ※Si上のSiO2膜（膜厚約100nm）の１点を100回繰り返し測定時の標準偏差値
測定速度	最小サンプリング間隔 0.05秒（膜厚・光学定数解析含む）
光源	半導体レーザ（発振波長 636nm）
測定スポット	約 1mm角
入射角度	70度
寸法 (W x D x H)	270 × 337 × 最大631mm
	筐体
ステージサイズ	最大4 inch対応（オプション手動ステージ　XY軸±20mm）
寸法 (W x D x H)	250 × 175 × 218.3mm
重量	約5kg
インターフェース	GigE（カメラ信号）
	その他
インターフェース	GigE（カメラ信号）
電源	AC100～240V
ソフトウェア	SE-View
付属品	ノートパソコン、取扱説明書、標準サンプル

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