高速エリプソメータ2次元分布測定計測装置

ME-210 / ME-310

1nm以下の膜厚変化を高速・高密度に面測定できます。
最大 φ12インチ（300mm)ウエハまで対応可能です。
また、透明基板対応、微小領域の拡大・高解像測定など豊富な機能を揃えています。

スペック
	測定
繰返し再現性	膜厚: 0.1nm 屈折率: 0.001 ※Si上のSiO2膜（膜厚約100nm）の１点を100回繰り返し測定時の標準偏差値
測定速度	広域モード 900 point/min 高精細モード 10,000 point/min (精度standard)
光源	半導体レーザ（発振波長 636nm）
測定スポット	広域モード：0.5mm角中間モード： 55μm角高精細モード： 5.5µm角
入射角度	70度
寸法 (W x D x H)	270 × 337 × 最大631mm
透明基板対応	ME-210-T 　対応 ME-210　　非対応 ME-310　　非対応
	筐体
ステージサイズ	ME-210 ：最大８インチウェハー対応 ME-310 ：最大12インチウエハー対応
寸法 (W x D x H)	ME-210 ：　650 × 650 × 1740mm ME-310 ：　790 × 900 × 1740mm
重量	ME-210 ：約200kg ME-310 ：約280kg
	その他
インターフェース	GigE（カメラ信号）
電源	AC100～240V
ソフトウェア	ME-View
付属品	デスクトップパソコン、モニター、取扱説明書、標準サンプル