薄膜厚度 / 折射率椭偏测量 ME 系列

ME-210/ME-210-T

高速映射椭偏仪，可对 φ8 英寸晶圆的整个表面进行测量，并能够以高速、高密度测量 1 nm 以下的表面膜厚。

此外，还支持微小区域测量、透明基板测量等各种膜厚分布测量。

案例研究

通过旋涂工艺涂布的光刻胶膜厚

规格
	测量
重复精度	膜厚：0.1 nm 折射率：0.001 ※在 Si 基板上的 SiO₂（膜厚约 100 nm）进行 100 次重复测量时的标准偏差
速度	最高速度 ≥ 900 点/分钟（标准模式，100 mm 见方区域） ≥ 5,000 点/分钟（高分辨率模式，1 mm 见方区域）
光源	半导体激光器（波长：636 nm）
光斑尺寸	标准模式：0.5 mm □ 高分辨率模式：5.5 µm □
入射角	70°
外形尺寸（宽 × 深 × 高）	270 × 337 × 最大 631 mm
透明基板测量	ME-210-T 　适用 ME-210　　不适用
	硬件
样品台尺寸	最大 8 英寸（可选 Φ300 mm）
外形尺寸（宽 × 深 × 高）	ME-210-T　650 × 650 × 1744mm ME-210　　650 × 650 × 1740mm
重量	约 200 kg
	其他
接口	GigE（相机信号）
电源	AC100～240V
软件	ME-View
附件	台式电脑、显示器、用户手册、标准样品

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Thin film thickness / refractive index ellipsometric measurement ME/SE Series

Thin film thickness / refractive index ellipsometric measurement ME/SE Series

Thin film thickness / refractive index ellipsometric measurement ME/SE Series

类别

高速椭偏仪膜厚 / 折射率二维分布测量设备

相关标签

#高速エリプソメータ膜厚・屈折率 2次元分布測定計測装置

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