薄膜厚度 / 折射率椭偏测量 SE系列

SE-101

这是一款紧凑型椭偏仪,可在点测量中实现高测量精度和高速测量。
测量头单元可分离,能够集成到生产线和实验室设备中。

规格
  • 测量
重复精度
  • 膜厚:0.1 nm 折射率:0.001 ※在 Si 基板上的 SiO₂(膜厚约 100 nm)进行 100 次重复测量时的标准偏差
速度
  • 最小采样间隔 0.05 秒
光源
  • 半导体激光器(波长:636 nm)
光斑尺寸
  • 约 1 mm □
入射角
  • 70°
外形尺寸 (宽 × 深 × 高)
  • 270 × 337 × 最大631mm
  • 硬件
样品台尺寸
  • 最大 4 英寸 (可选手动 XY 平台,行程:±20 mm)
外形尺寸 (宽 × 深 × 高)
  • 250 × 175 × 218.3mm
重量
  • 约 5 kg
接口
  • GigE(相机信号)
  • 其他
电源
  • AC100~240V
软件
  • SE-View
附件
  • 笔记本电脑、用户手册、标准样品

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ME-210/ME-210-T

该映射椭偏仪可测量最大 φ8 英寸晶圆的整个表面(选配时最大支持 ⌀300 mm),能够对 1 nm 以下的膜厚变化进行高速、高分辨率的表面测量。

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