マッピングエリプソメータ

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測定例

段差サンプル測定

レジスト測定

GaAsウェハー酸化膜測定

ダミーサンプルの測定例

　Siウェハー上にSiO2層を、場所によって厚さを変えて形成したサンプルの測定例です。
極薄の膜厚の差が明瞭に測定できている様子が判ります。

レジスト膜厚の測定例

スピンコートで発生しやすい、中央部で厚くなる現象が観察されています。また、レジスト中に混入した異物や泡などは、極端な膜厚変動として検出されます。屈折率分布のデータとあわせることで、異物か気泡かの区別も可能です。
　得られたデータは全て数値データとして出力可能ですので、図のように任意線上の分布データをグラフ化することも可能です。

GaAsウェハーの自然酸化膜厚の個体差比較

　極薄の自然酸化膜厚も、ME101なら短時間にウェハー全面の分布の評価が可能です。
　ウェハー間のばらつきや、欠陥の検出に威力を発揮します。