マッピングエリプソメータ
仕 様
| 装置仕様 | |
| 測定方式 | フォトニック結晶アレイ並列処理方式 |
| 測定再現性 | 膜厚: 0.1nm, 屈折率: 0.001※ |
| 装置構成 | |
| 光源 | 半導体レーザ(typ. 636nm) |
| 測定スポット | 約 1mm角 |
| 入射角度 | 60,70,75[deg] 手動交換 |
| 標準ステージサイズ | 最大6inchウェハー対応 |
| 測定速度 | 毎分1000点(参考) |
| 寸法・重量 | システム全体：520 W×500 D×506 H [mm],
約60kg |
※測定速度の値は測定対象、ステージ設定等で変わり、常に毎分1000点を保証するものではありません。
| 製品内容 | ME101システム一式 操作パソコン 標準サンプル ソフトウェア(インストールCD) 取扱説明書 |
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